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玻璃光罩（Photomask / Mask），又称掩膜版、光罩、光刻掩模版，是光刻工艺中的核心精密工具，作用类似“精密底片”。
技术参数：精度±1-2nm（EUV掩模），分辨率≤1nm（EUV掩模），图案尺寸0.01-0.1μm（线宽），对准精度 ±10-20nm，表面粗糙度Ra≤0.1nm。
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